CEW-2000,6000,9000 交直流電熒光磁粉探傷機
CEW-6000熒光磁粉探傷機係機電分立式半自動熒光磁粉探傷設備，由電源控製係統、夾持磁化裝置、磁懸液噴淋係統，熒光係統等幾大部分組成，適用於以濕式磁粉法檢測由鐵磁性材料製成的各種工件表麵及近表麵因鑄造、鍛造、加工、疲勞等各種原因引起的裂紋和各種細微缺陷。
本設備采用手動、自動兩種運行方式，由可編程控製器（MITSUBISHI PLC）集中控製。手動時，可進行每個功能的單步獨立操作；自動時，設備自動執行PLC內部程序，工件上料到位後，按啟動按鈕，可實現工件夾緊——磁化——鬆開等一係列動作。周向磁化采用直接通電，縱向磁化采用兩組方角線圈，具有良好的磁化效果。交流磁化均帶斷電相位控製，具有較好的剩磁穩定度，既適用於連續法探傷檢查，又適用於剩磁法探傷檢查。複合磁化在工件上形成旋轉磁場，一次性全方位顯示磁跡，具有較高的工作效率。
技術參數
周向磁化電流：AC 0-6000A有效值，連續可調，DC 0-3200A(標準試棒，半波兩倍於平均值) 平均值，連續可調
縱向磁化磁勢：AC 0-18000AT，有效值，連續可調
磁化靈敏度：15/50A1型試片顯示清晰
暫載率：≥25%
電極間距：250-1800mm，可調
運行方式：手動、自動運行
磁化方式：周向、縱向、複合磁化
尾架電極箱運動方式：電動
夾緊方式：氣動
退磁方式：自動衰減式退磁
縱向退磁磁勢：AC：18000-0 AT，有效值，連續可調
周向退磁電流：AC：6000-0 A，有效值，連續可調
退磁效果：≤160A/M（0.2mT）
電源：三相四線380V±10% 50HZ *大瞬時380A
外形尺寸：3500（長）×1100（寬）×1650（高）mm
重量：約2800Kg
CEW-2000（見下圖）
CEW-6000（見下圖）
CEW-9000（見下圖）
