應用領域：冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業中的各種分析。
檢測基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。
主要技術參數：光學係統：帕型）-龍格羅蘭圓全譜真空型光學係統；
波長範圍：1700~580nm
焦距：400mm
探測器：高性能CCD陣列
光源類型：數字光源，高能預燃技術（HEPS）
放電頻率：100-1000Hz
放電電流：*大400A
工作電源：220VAC 50/60Hz
儀器尺寸：720*860*500
儀器重量：約100kg（不含真空係統）
檢測時間：依據樣品類型而定，一般25S左右
電極：鎢材噴射電極
分析間隙：真空軟件自動控製、監測
技術特點：
1、高性能光學係統《1光學係統激發時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光學室，實現光路直通，有效的降低光路損耗；《2》高性能光學係統設計及采用高精度的光學元件可**測定非金屬元素中C、P、S、N以及各種元素含量；《3》測定結果精準，重現及長期穩定性**。
2、自動光路校準：（《1》自動光路校準，光學係統自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作；《2》儀器自動識彆特定譜線與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定。
3、單板式透鏡設計：《1》真空光學係統采用獨特的入射窗與真空隔離，可在真空係統工作狀態下進行操作，光學透鏡采用單板式透鏡結構，日常清洗維護方便快捷。《2》在日常工作中儀器無需維護，也冇有消耗品及更換零部件。
4、真空室一體化：（《1》獨特的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。《2》真空室一體化設計及高精密的加工，使真空保持的更加持久。
5、真空防返油技術：《1》多級隔離的真空防返油技術，采用真空壓緊、擋板閥保證真空泵不工作時間真空光室與真空完全隔離。《2》中間增加了真空濾油裝置，確保真空泵中油不進入真空室，保障CCD檢測器及光學元件在可靠環境中工作。
6、開放式激發台：《1》開放式激發台機靈活的樣品夾設計，以滿足客戶現場的各種形狀大小的樣品分析。《2》配合使用小樣品夾具，線材*低分析可達到1.5mm。
7、噴射電極技術：《1》采用國際*先進的噴射電極技術，使用鎢材料電極，在激發狀態下，電極周圍會形成氬氣噴射氣流，這樣在激發過程中激發點周圍不會與外界空氣接觸，提高激發精度。《2》配上獨特氬氣氣路設計，大大降低了氬氣使用量，也降低客戶使用成本
。
8、集成氣路模塊：《1》激發台采用散熱性能好的合金材料製作，不僅堅固、耐用而且清潔方便。《2》供氣係統采用集成氣路模塊，電極自吹掃功能，為激發創造了良好的環境。
9、全數字化激發光源：《1》全數字激發光源，采用國際*為先進的等離子激發光源，超穩定能量釋放在氬氣環境中激發樣品。《2》全數字激發脈衝，確保激發樣品等離子體超高分辨率和高穩定率輸出。《3》滿足各種不同材料的激發要求。
10、高速數據采集：《1》儀器采用高性能CCD器件，紫外鍍膜技術及高性能FPGA、ＤＳＰ及ＡＲＭ處理器。《２》具有超高速數據采集分析功能，並能自動實時監測控製光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發室等模塊的運行狀態。
11、以太數據傳輸：《１》計算機和光譜儀之間使用以太網卡和TCP/IP協議，避免電磁乾擾，光纖老化的弊端，同時計算機和打印機完全外置，方便升級和更換。《2》完備的網絡係統。《3》可以遠程監控儀器狀態，多通路操控係統控製和監控所有的儀器參數。
12、預製工作曲線：《1》根據元素和材質對應的分析程序而稍有差異，激發和測試參數儀器出廠時已經調節好，根據分析程序可自動選擇*優測試條件。《2》長期以來工廠積累了大量的經驗以及**的國際標樣庫，儀器出廠時工廠預製工作曲線，使用戶拿到儀器後可投入使用。《3》技術規格中附有分析範圍（並可根據用戶提供標樣免費繪製或延長工作曲線）。
13、分析速度快捷：《1》分析速度快捷，為客戶節約了寶貴的時間，20秒內可測完所有通道的元素成分。《2》針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及測量時間，使儀器用*短時間達到*優的分析效果。
14、多基體分析：《1》光路設計采用羅欄園結構，CCD上下交替排列，保證接收全部的譜線，不增加硬件設施，即可實現多基體分析。《2》便於根據生產的需要增加基體及材料種類和分析元素。《3》相比光電倍（PMT）光譜儀可大大減低使用成本及使用範圍。
15、軟件多國語言：《1》儀器操作軟件完全兼容於Windows係統，同時可以根據客戶需求配備各種語言版本。《2》軟件操作簡單，即使冇有任何光譜儀知識及操作經驗的人員隻需經過簡單的知識培訓即可上手使用。